取样式光度计-toadkk浊度计-tokisangyo粘度计-深圳九州工业品有限公司

产品分类

products category

产品中心/ products

您的位置:首页  -  产品中心  -  仪表,电子设备  -  日本  -  CS-620F日本horiba光纤型高温磷酸浓度计

日本horiba光纤型高温磷酸浓度计

日本horiba光纤型高温磷酸浓度计 CS-620F
在 3D NAND 制程中,沉积几十层二氧化硅和氮化硅,并使用高温磷酸选择性地刻蚀氮化硅层。在该制程中,通过控制化学药液的浓度和温度,可以获得期望的刻蚀速率。成熟型号很难测量高温化学药液,但 CS-620F 能够在高达 170℃ 的高温下进行测量。使用吸收光谱进行连续测量,与其他方法相比,需要的维护和耗材更少。

  • 产品型号:CS-620F
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-08-28
  • 访  问  量:73
立即咨询

联系电话:

产品详情
品牌其他品牌产地进口

日本horiba光纤型高温磷酸浓度计  CS-620F

在 3D NAND 制程中,沉积几十层二氧化硅和氮化硅,并使用高温磷酸选择性地刻蚀氮化硅层。在该制程中,通过控制化学药液的浓度和温度,可以获得期望的刻蚀速率。成熟型号很难测量高温化学药液,但 CS-620F 能够在高达 170℃ 的高温下进行测量。使用吸收光谱进行连续测量,与其他方法相比,需要的维护和耗材更少。

主要特征:

可测量高达 92% 的高浓度磷酸

无需冷却机制和冷却时间。

无需冷却循环管路中的高温磷酸(140 至 170℃),可直接测量。

样品使用PFA接触,以降低污染风险。

采用每半年一次的背景校正周期,有助于显著减少机台?;奔?。

每3秒更新一次测量数据,有助于更快速使用浓度反馈进行控制

日本horiba光纤型高温磷酸浓度计  CS-620F

在 3D NAND 制程中,沉积几十层二氧化硅和氮化硅,并使用高温磷酸选择性地刻蚀氮化硅层。在该制程中,通过控制化学药液的浓度和温度,可以获得期望的刻蚀速率。成熟型号很难测量高温化学药液,但 CS-620F 能够在高达 170℃ 的高温下进行测量。使用吸收光谱进行连续测量,与其他方法相比,需要的维护和耗材更少。

主要特征:

可测量高达 92% 的高浓度磷酸

无需冷却机制和冷却时间。

无需冷却循环管路中的高温磷酸(140 至 170℃),可直接测量。

样品使用PFA接触,以降低污染风险。

采用每半年一次的背景校正周期,有助于显著减少机台?;奔?。

每3秒更新一次测量数据,有助于更快速使用浓度反馈进行控制


日本horiba光纤型高温磷酸浓度计


在线咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7
扫一扫
加微信
版权所有©2024 深圳九州工业品有限公司 All Rights Reserved   备案号:粤ICP备2023038974号   sitemap.xml   技术支持:环保在线   管理登陆